安捷伦科技（中国）有限公司
使用 ICP-OES 测定金属样品中的硅元素
检测样品：金属
检测项目：硅元素
方案概述：本文介绍了一种使用 ICP-OES 测定金属样品基体中，氢氟酸介质下硅元素的方法，采用了安捷伦无硅涂层的耐氢氟酸进样系统，克服了常规 ICP-OES 分析氢氟酸介质空白值高的缺点，获得了较低的空白值，适合于测定多种金属基体中不同含量范围的硅元素。
本文介绍了一种使用 ICP-OES 测定金属样品基体中，氢氟酸介质下硅元素的方法，采用了安捷伦无硅涂层的耐氢氟酸进样系统，克服了常规 ICP-OES 分析氢氟酸介质空白值高的缺点，获得了较低的空白值，适合于测定多种金属基体中不同含量范围的硅元素。
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